1、 选创建一个正方形地面，参数为：200*200*4，分段为1.
2、 复制上面创建的正方体，调整参数为：200*100*200，分段为8*3*8。调整好参数后，将这正方体的底部移动到与地面重合。并转为可编辑多边形。
3、 面模式中，选中上步多边形的上下两个端面，将其删除。这里记得将多余的点优化掉。
4、 点模式中，对多边形顶端的一圈点进行每相隔一个点选择一个点的方式，选完一圈点。如图所示。 对选中的点用移动工具，将其向下移动一段距离 。
5、 边模式中，选中因移动点而形成的起伏边。进行抽取样条线。如图所示。
6、 给第4步得到的多边形添加一个晶格命令；将晶格的圆柱半径和球体半径更改为2，细分数为8.在此得到一圈顶端呈起伏状的围栏。
7、 新建一个半径为10的圆球，分段为12，类型为二十面体；对圆球添加一个对象克隆为父级，对象为第5步抽取得到的样条线，分布方式为数量，值为16；勾选每段，调整偏移值为3%(调整偏移值可使克隆的圆球只停留在样条线的最高点上)。起伏的围栏模型创建完成。
